Установки вакуумного напыления Xiamen Dexing Magnet Tech (Dexinmag)

Представлены моделями:

• DXT-450,
• DXMS-450C,
• DXJ-1000 (четырехкамерная),
• DXJ-560D (грушевидная однокамерная),
• DXJ-450D (однокамерная),
• DXJ-560S (грушевидная двухкамерная).

Магнетронное напыление — это способ осаждения покрытий на подложки за счет катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда.

Представлены моделями:

• DXP-300,
• DXP-450B,
• DXP-450A

Импульсное лазерное напыление (PLD) — технология получения тонких пленок путем осаждения на поверхности подложки веществ, испаряемых с мишени лазерным лучом высокой энергии. Основное преимущество испарения лазерным лучом заключается в его высокой скорости и точности.

Представлены моделями:

• DXMC-500A,
• DXD-500.

Электронно-лучевое напыление представляет собой технологию, при которой мишень бомбардируется электронным пучком, испускаемым вольфрамовой нитью накала в условиях высокого вакуума. Под воздействием электронного луча атомы мишени переходят в газовую фазу, а затем осаждаются на подложку.

Однокамерная вакуумная установка нанесения покрытий DXD-450 предназначена для получения металлических, полупроводниковых, оксидированных, органических и других тонких пленок методом термического испарения. Применяется в научных учреждениях для исследования покрытий из новых материалов, изучения новых технологий. Также данная модель используется для тестов перед серийным производством.

Термическое напыление (термическое испарение) — широко распространённый метод получения тонких пленок. Исходный материал испаряется под действием нагрева, а затем осаждается (конденсируется) в вакууме непосредственно на подложку.

Установка атомно-слоевого осаждения DXALD предназначена, в основном, для получения покрытий из диэлектрических материалов, таких как прозрачные проводящие тонкие пленки, Al2O3 и т.д.

Атомно-слоевое осаждение (ALD) - это технология, позволяющая получать очень тонкие (нано-) пленки, осаждать равномерные и однородные покрытия с очень высокой точностью и выпускать высокотехнологичные продукты.

Система лазерной молекулярно-лучевой эпитаксии (laserMBE) DXLMBE-450 предназначена для создания тонких пленок: оптических кристаллов, сегнетоэлектриков, ферромагнетиков, сверхпроводников и органических соединений. Применяется для научных исследований тонкопленочных материалов и изготовления небольших партий в университетах и научно-исследовательских институтах.

Принцип технологии Laser MBE основан на использовании лазерного импульса для осаждения материалов при эпитаксиальном росте различных пленок. Такой метод позволяет испарять керамические материалы с высокой температурой плавления или многокомпонентные вещества из твердой фазы.