Установки магнетронного напыления

Установка магнетронного напыления DXT-450
Установка магнетронного напыления DXMS-450C
Четырехкамерная установка магнетронного напыления DXJ-1000
Система магнетронного распыления DXJ-1000 применяется для осаждения металлических пленок (Al, Ag, Ni, Cu, Ti, Pd и т.д.) на поверхность кристаллического кремния. Она позволяет непрерывно создавать покрытия для фотоэлектрических элементов из кристаллического кремния больших размеров, с различными характеристиками.
Грушевидная однокамерная магнетронная напылительная установка DXJ-560D
Однокамерная напылительная установка DXJ-560D используется для получения современных тонкопленочных материалов, включая наноразмерные монослойные и многослойные многофункциональные, металлические, полупроводниковые, диэлектрические пленки и т.д. Области применения: для научных исследований тонкопленочных структур и производства небольших партий в университетах и научно-исследовательских институтах.
Однокамерная магнетронная напылительная установка DXJ-450D
Модель DXJ-450D применяется для получения современных тонкопленочных материалов, включая наноразмерные монослойные и многослойные многофункциональные, металлические, полупроводниковые, диэлектрические пленки и т.д. Применяется для научных исследований и выпуска небольших партий в университетах и научно-исследовательских институтах.
Грушевидная двухкамерная магнетронная напылительная установка DXJ-560S
Двухкамерная напылительная система DXJ-560S используется для получения современных тонкопленочных материалов, включая наноразмерные монослойные и многослойные многофункциональные, металлические, полупроводниковые, диэлектрические пленки и т.д. Применяется для научных исследований тонкопленочных структур и производства небольших партий в университетах и научно-исследовательских институтах.
Магнетронное напыление - это технология осаждения покрытий на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме диодного разряда в скрещенных полях. Рабочая камера заполняется инертным газом. Процесс происходит в плазменной среде: в области вблизи катода создается плотная плазма, а магнитное поле заставляет заряженные частицы двигаться по спирали, повышая вероятность их столкновения с катодом и отщепления атомов. Атомы выбиваются за счет ионной бомбардировки. Данный метод имеет высокую скорость нанесения покрытий. Он позволяет получать тонкие пленки с точно заданными свойствами на различных видах поверхностей (металлах, керамике, стекле и других).
Преимущества технологии:
- универсальность,
- высокое качество наносимых покрытий, полное покрытие подложки,
- чистота и однородность,
- хорошая адгезия,
- высокая скорость осаждения,
- равномерная обработка неровных поверхностей,
- возможность получения износостойких покрытий,
- однородность покрытий по толщине на подложках большой площади,
- управляемость процессом.
Основное оборудование: рабочая камера, система откачки для создания в камере вакуума, система напуска рабочего газа, магнетроны, заслонки, держатели для размещения подложек, их вращения, перемещения, нагрева, блоки питания и др. Пользователь может управлять процессом и устройствами с помощью компьютерного ПО. Существуют также компактные настольные установки магнетронного напыления.
У нас Вы можете подобрать и купить напылительные системы данного типа производства компании Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd. (Dexinmag) по выгодным ценам. Они применяются, по большей части, для научных исследований и выпуска небольших партий продукции. В настоящее время интерес к данному оборудованию повышается в связи с ростом спроса на промышленную продукцию. Также мы можем предложить и другое оборудование для вакуумного нанесения покрытий методами: импульсного лазерного, электронно-лучевого, термического испарения, MBE с лазером и др. Наша компания работает по Москве, СПб и всей России.
Цена предоставляется по запросу. Позвоните или напишите нам.
Мы поможем подобрать оптимальное по характеристикам и цене оборудование под Ваш бюджет.