›
Двухкамерная установка термического ALD
Двухкамерная установка термического ALD Atomic
Особенности
Представлена базовая спецификация. Комплектация и технические характеристики обсуждаются в индивидуальном порядке, в соответствии с Вашим ТЗ.
| Реакционная камера | Реакционная камера с двумя полостями в режиме бокового потока/распыления, с технологией теплового излучения. Обеспечивает равномерность температуры и оснащена устройством быстрого разделения газов для подавления CVD-подобных реакций, что гарантирует высокое качество покрытий и высокую эффективность роста. |
| Температура в реакционной камере | Комнатная-500 °C, точность регулировки ±0.5 °C |
| ВЧ источник | ICP, мощность 0-2000 Вт |
| Прекурсоры | Жидкие, твердые, газообразные, озон; тепловой источник объемом 500 мл (с тепловым излучением для предотвращения загрязнения), внешний источник 200 мл |
| Подложки | До 8", опционально - 12" |
| Вакуумный датчик | Inficon, 1000 - 2.5×10⁻⁴ Торр |
| Клапаны | Fujikin, максимальная температура: 200 °C (опционально: 300 °C) |
| Регуляторы расхода газа | Horiba，0-1000 sccm |
| Газ-носитель | N₂ или Ar |
| Вакуумный насос | Коррозионно-стойкий масляный, сухой или в соответствии с требованиями |
| Система контроля и управления | Компьютер + ПЛК, возможна конфигурация для работы с промышленным компьютером |
| Характеристики пленок | Неоднородность оксида алюминия, нанесенного на 8" кремниевые пластины толщиной 50 нм, составляет менее 0,5% |
| Опции | Различный опции (Loadlock и др.) |
Цена предоставляется по запросу. Позвоните или напишите нам.
Мы поможем подобрать оптимальное по характеристикам и цене оборудование под Ваш бюджет.
