Установка атомно-слоевого осаждения DXALD Xiamen Dexing Magnet Tech (Dexinmag)
Применение
Атомно-слоевое осаждение (ALD) - метод, позволяющий точно контролировать толщину пленки. С его помощью можно наносить металлы, оксиды, карбиды (N, Si), различные полупроводниковые и сверхпроводящие материалы. Установки атомно-слоевого осаждения надежны и просты в эксплуатации и применяются, в том числе, в учебных и научно-исследовательских учреждениях.
| Модель | DXALD |
|---|---|
| Предельный вакуум | 5 Па |
| Скорость натекания | <10-8 Па*л/с |
| Вакуумная камера | Материал: нерж.сталь (аргонодуговая сварка), с крышкой в верхней части |
| Нагрев подложек | Внешняя система нагрева, диапазон температур: от комнатной до 500°C, непрерывная и регулируемая |
| Размер подложек | Ø50-100 мм |
| Равномерность толщины пленки | Для пленки ZnO и Ø100 мм - менее ±1% |
| Линия подачи рабочего вещества | Согласно ТЗ Заказчика |
| Система откачки | Безмасляный сухой вакуумный насос, вакуумная магистраль |
| Контроль уровня вакуума | Датчик Пирани |
| Запись данных и интерфейс человек-машина | Наличие |
| Компьютерная система управления | Наличие |
| Габариты установки | 600*600*1200мм |
| Другие параметры | По запросу |
ALD (атомно - слоевое осаждение) - это технология получения тонких пленок, основанная на атомном осаждении из паровой фазы. Во время процесса поверхность подложки подвергается воздействию газообразных веществ, называемых прекурсорами. Обычно в установке два источника таких веществ. Рост пленок осуществляется путем последовательного нанесения слоев: покрытие формируется за счет многократного воздействия отдельных прекурсоров. Каждый прекурсор вступает в реакцию с поверхностью и осаждается до тех пор, пока все доступные участки на поверхности не перекроются. После этого реакция прекращается. Цикл такой обработки поверхности повторяется до достижения необходимой толщины пленки.
Основные преимущества технологических установок ALD по сравнению другими методами нанесения тонких пленок:
- точный контроль состава,
- прецизионный контроль толщины покрытия,
- высокий уровень адгезии,
- процессы могут происходить при низких температурах,
- возможность нанесения тонких пленок на подложки любых форм.
Установки ALD используются для научных и промышленных задач: производства полупроводниковых устройств, пластин, получения износостойких покрытий, для оптических и многих других приложений.
Купить установку ALD производства компании Dexinmag можно в нашей компании. Мы работаем по Москве, СПб и всей России.
Цена предоставляется по запросу. Позвоните или напишите нам.
Мы поможем подобрать оптимальное по характеристикам и цене оборудование под Ваш бюджет.