Установка магнетронного напыления DXJ-450D
Однокамерная установка магнетронного напыления DXJ-450D Xiamen Dexing Magnet Tech (Dexinmag)
Применение
Однокамерная магнетронная напылительная установка DXJ-450D применяется для получения современных тонкопленочных материалов, включая наноразмерные монослойные и многослойные многофункциональные пленки, металлические пленки, полупроводниковые пленки, диэлектрические пленки и т.д. Данная установка нашла широкое применение для научных исследований тонкопленочных материалов и производства небольших партий продукции в университетах и исследовательских институтах.
Установка состоит из вакуумной камеры для напыления, магнетронов/мишеней для распыления, пластины для нагрева подложки с водяным охлаждением, контура подачи рабочего газа, системы вакуумирования и измерения вакуума, электронной системы управления и др.
| Модель | DXJ-450D | |
|---|---|---|
| Вакуумная камера | Цилиндрическая, Ø450*350 мм | |
| Вакуумная система | Механический форвакуумный насос, турбормолекулярный насос, клапан | |
| Предельное остаточное давление | ≤6,67*10-5 Па (после прогрева и обезгаживания) | |
| Время повторной откачки | 6,6*10-4 Па за 40 мин | |
| Магнетронные источники/мишени | 3 шт., размером Ø60 мм (один из источников может распылять магнитный материал). Распыление на ВЧ или постоянном токе. Три мишени могут одновременно отклоняться к центру образца. Расстояние между мишенью и образцом составляет 90-110 мм (регулируется). При распылении вверх расстояние между мишенью и образцом составляет 40-80 мм. | |
| Нагревательная пластина для одной подложки с водяным охлаждением | Структура | Нагрев подложки и водяное охлаждение работают отдельно друг от друга. При демонтаже нагревателя можно установить водяное охлаждение. |
| Размер образца | Ø30 мм | |
| Режим перемещения | Подложка может непрерывно вращаться со скоростью 5-10 об/мин | |
| Нагрев | Макс. температура нагрева подложки: 600 °C ± 1 °C | |
| Отрицательное смещение на подложке | -200 В | |
| Воздушный контур | Регулятор расхода (2 канала) | |
| Компьютерная система управления | Управление вращением образца, переключением заслонки, подтверждение положения мишени и др. | |
| Опции. Пластина для вращения подложек с 6-ю портами | Удалив нагревательную пластину с водяным охлаждением подложки, можно установить эту пластину. На ней можно разместить 6шт подложек диаметром 30 мм. Одна из 6 точек предназначена для установки нагревателя, остальные - для водяного или естественного охлаждения подложек. Макс. температура нагрева подложки составляет 600 °C ± 1 °C. | |
| Занимаемое пространство | Основная установка | 1300*800 мм2 |
| Шкаф управления | 700*700 мм2 (2 шт.) | |
Цена предоставляется по запросу. Позвоните или напишите нам.
Мы поможем подобрать оптимальное по характеристикам и цене оборудование под Ваш бюджет.