Грушевидная двухкамерная магнетронная напылительная установка DXJ-560S
Применение:
Грушевидная двухкамерная установка магнетронного напыления DXJ-560S применяется для получения современных тонкопленочных материалов: наноразмерных монослойных и многослойных многофункциональных пленок, металлических пленок, полупроводниковых пленок, диэлектрических пленок и т.д. Применяется для научных исследований тонкопленочных материалов и мелкосерийного производства в университетах и научно-исследовательских институтах.
Установка состоит из вакуумной камеры для напыления, магнетронов/мишеней для распыления, пластины для нагрева подложки с водяным охлаждением, камеры загрузки образцов, камеры для образцов, печи для отжига, устройств для подачи образцов и обратной промывки, линии подачи рабочего газа, системы вакуумирования, вакуумметрии, электронной системы управления и других компонентов.
Модель | DXJ-560S | |
---|---|---|
Вакуумная напылительная камера | Грушевидной формы, Ø560*350мм | |
Камера загрузки образцов | Цилиндрическая, горизонтальная, Ø250*420мм | |
Вакуумная система | Независимые системы турбомолекулярного и форвакуумного насосов для напылительной камеры и камеры загрузки образцов | |
Предельное остаточное давление | Основная вакуумная камера (напылительная) | ≤6,67*10-6 Па (после прогрева и обезгаживания) |
Камера загрузки образцов | ≤6,67*10-4 Па (после прогрева и обезгаживания) | |
Время повторной откачки | Основная вакуумная камера (напылительная) | 6,6*10-4 Па за 40мин |
Камера загрузки образцов | 6,6*10-3 Па за 40мин | |
Магнетронные источники/мишени | 5шт, размером Ø60 мм (один из источников может распылять магнитный материал). Распыление на ВЧ или постоянном токе. Расстояние между мишенью и образцом составляет 40-80 мм (регулируется). | |
Нагревательная пластина подложки с водяным охлаждением | Структура | 6 точек, одна из которых предназначена для нагрева, остальные - для водяного охлаждения |
Размер образца | Ø30мм, возможно размещение 6шт | |
Режим перемещения | Вращение назад и вперед на 0-360°C | |
Нагрев | Макс. температура нагрева подложки: 600°C ± 1°C | |
Отрицательное смещение на подложке | -200В | |
Воздушный контур | Регулятор расхода (2 канала) | |
Конфигурация камеры загрузки образцов | Модуль для образцов | Установка 6шт образцов единовременно |
Модуль для отжига | Макс. температура нагрева подложки: 800°C ± 1°C | |
Модуль обратной промывки | Для обратной промывки подложек | |
Магнитное устройство для подачи образцов | Выполняет функцию забора и подачи образца из напылительной камеры и камеры загрузки образцов | |
Компьютерная система управления | Управление вращением образца, открытием заслонки и подтверждение положения мишени | |
Занимаемое пространство | Основная установка | 2600*900мм2 |
Шкаф управления | 700*700мм2 (2шт) |