logo
home-page
Технологические установки (PVD, ALD)

Двухкамерная магнетронная напылительная установка DXJ-560S

Грушевидная двухкамерная магнетронная напылительная установка DXJ-560S

DexinMag-logo
PVD-DXJ-560S

Применение:

Грушевидная двухкамерная установка магнетронного напыления DXJ-560S применяется для получения современных тонкопленочных материалов: наноразмерных монослойных и многослойных многофункциональных пленок, металлических пленок, полупроводниковых пленок, диэлектрических пленок и т.д. Применяется для научных исследований тонкопленочных материалов и мелкосерийного производства в университетах и научно-исследовательских институтах.


Установка состоит из вакуумной камеры для напыления, магнетронов/мишеней для распыления, пластины для нагрева подложки с водяным охлаждением, камеры загрузки образцов, камеры для образцов, печи для отжига, устройств для подачи образцов и обратной промывки, линии подачи рабочего газа, системы вакуумирования, вакуумметрии, электронной системы управления и других компонентов.

Технические характеристики
Модель DXJ-560S
Вакуумная напылительная камера Грушевидной формы, Ø560*350мм
Камера загрузки образцов Цилиндрическая, горизонтальная, Ø250*420мм
Вакуумная система Независимые системы турбомолекулярного и форвакуумного насосов для напылительной камеры и камеры загрузки образцов
Предельное остаточное давление Основная вакуумная камера (напылительная) ≤6,67*10-6 Па (после прогрева и обезгаживания)
Камера загрузки образцов ≤6,67*10-4 Па (после прогрева и обезгаживания)
Время повторной откачки Основная вакуумная камера (напылительная) 6,6*10-4 Па за 40мин
Камера загрузки образцов 6,6*10-3 Па за 40мин
Магнетронные источники/мишени 5шт, размером Ø60 мм (один из источников может распылять магнитный материал). Распыление на ВЧ или постоянном токе. Расстояние между мишенью и образцом составляет 40-80 мм (регулируется).
Нагревательная пластина подложки с водяным охлаждением Структура 6 точек, одна из которых предназначена для нагрева, остальные - для водяного охлаждения
Размер образца Ø30мм, возможно размещение 6шт
Режим перемещения Вращение назад и вперед на 0-360°C
Нагрев Макс. температура нагрева подложки: 600°C ± 1°C
Отрицательное смещение на подложке -200В
Воздушный контур Регулятор расхода (2 канала)
Конфигурация камеры загрузки образцов Модуль для образцов Установка 6шт образцов единовременно
Модуль для отжига Макс. температура нагрева подложки: 800°C ± 1°C
Модуль обратной промывки Для обратной промывки подложек
Магнитное устройство для подачи образцов Выполняет функцию забора и подачи образца из напылительной камеры и камеры загрузки образцов
Компьютерная система управления Управление вращением образца, открытием заслонки и подтверждение положения мишени
Занимаемое пространство Основная установка 2600*900мм2
Шкаф управления 700*700мм2 (2шт)

Отправьте запрос

Наши специалисты оперативно свяжутся с Вами

Нажимая кнопку "Отправить запрос", я подтверждаю согласие с Политикой конфиденциальности.

Поля, отмеченные *, обязательны для заполнения.