Установка лазерной молекулярно-лучевой эпитаксии (laserMBE) DXLMBE-450 Xiamen Dexing Magnet Tech (Dexinmag)
Применение
Установка лазерной молекулярно-лучевой эпитаксии (laserMBE) DXLMBE-450 предназначена для создания тонких пленок: оптических кристаллов, сегнетоэлектриков, ферромагнетиков, сверхпроводников и органических соединений. Она особенно полезна для создания сложных слоистых сверхрешеточных тонких пленок с высокой температурой плавления, многоэлементных и содержащих газообразные элементы. Данная установка нашла широкое применение для научных исследований тонкопленочных материалов и производства небольших партий в университетах и научно-исследовательских институтах.
Основные узлы установки: вакуумные камеры (камера эпитаксии и загрузки образцов), устройство для подачи, подставка для образцов, вращающаяся платформа, вакуумный выхлоп, вакуумметрия, система управления электрооборудованием, компьютерное управление.
| Модель | DXLMBE-450 | |
|---|---|---|
| Основная вакуумная камера | Сферическая, Ø450 мм | |
| Камера загрузки образцов | Цилиндрическая, горизонтальная, Ø150*300 мм | |
| Вакуумная система | Основная вакуумная камера | Механический форвакуумный, турбормолекулярный, ионный и геттерный насосы, клапан |
| Камера загрузки образцов | Механический форвакуумный и турбормолекулярный насосы, клапан | |
| Предельное остаточное давление | Основная вакуумная камера | ≤5*10-8 Па (после прогрева и обезгаживания) |
| Камера загрузки образцов | ≤5*10-3 Па (после прогрева и обезгаживания) | |
| Время повторной откачки | Основная вакуумная камера | 5*10-3 Па за 20 мин |
| Камера загрузки образцов | 5*10-3 Па за 20 мин | |
| Вращающаяся платформа | Макс. размер мишени: Ø70 мм, до 4 шт. единовременно, каждая может вращаться, направление вращения можно менять. Скорость вращения: 5-60 об/мин. | |
| Нагревательная пластина подложки | Размер образца | Ø51 мм |
| Режим вращения | Подложка может непрерывно вращаться со скоростью 5-60 об/мин | |
| Нагрев | Макс. температура нагрева подложки: 800 °C ± 1 °C | |
| Воздушный контур | Регулятор расхода, цельнометаллический угловой клапан | |
| Опции | Дифракция быстрых электронов (RHEED) | Источник питания: макс. 25 кВ, макс. мощность луча 100 мкА |
| Колебание интенсивности RHEED, система контроля скорости роста | Веб-камера, аппаратные средства, ПО | |
| Устройство для сканирования лазерным лучом | Двумерное сканирование | |
| Генератор кислородной плазмы и источник питания | / | |
| Компьютерная система управления | Управление вращением пластины мишени, вращением мишени, вращением образца, контроль температуры образца, сканирования лазерным лучом и т.д. | |
| Квадрупольный масс-спектрометр | Диапазон массовых чисел: 1-100 | |
| Занимаемое пространство | Основная установка | 1300*850 мм2 |
| Шкаф управления | 700*700 мм2 (2 шт.) | |
Установку DXLMBE-450 Вы можете купить в нашей компании. Мы работаем по Москве, СПб и всей России.
Цена предоставляется по запросу. Позвоните или напишите нам.
Мы поможем подобрать оптимальное по характеристикам и цене оборудование под Ваш бюджет.