Установка магнетронного напыления DXMS-450C
Применение:
Установка магнетронного напыления DXMS-450C предназначена для получения тонких пленок с нано- и микроструктурами: таких как металлические, полупроводниковые, диэлектрические, оксидные, нитридные и другие нанопленки.
Режимы работы этой системы: с одной мишенью, поочередная работа и одновременная работа с двумя мишенями.
Установка DXMS-450C состоит из рабочей камеры, магнетронных источников, контура подачи рабочего газа, системы электропитания и управления, вакуумной системы и других компонентов.
Технические особенности
Рабочая камера
- Размер: Ø450мм × 460мм;
- Большая крышка на фланце с электроприводом, расположенная над вакуумной камерой;
- Два 4-дюймовых источника для магнетронного распыления c регулировкой;
- Вакуумный фланец CF150 для подключения вакуумной системы с вакуумным датчиком;
- Два смотровых окна и соответствующие заслонки.
Система откачки
Рабочая камера установки оснащена турбомолекулярным насосом KYKY FF-160/620 и механическим форвакуумным насосом производительностью 8 л/с. Предельное остаточное давление: менее 8×10-5 Па. Вакуум контролируется с помощью цифрового вакуумметра. На входе турбомолекулярного насоса установлен затвор GV150 с ручным приводом.
Держатель подложек в сборе
- Размеры столика для подложек Ø150 мм позволяют одновременно размещать одну подложку размером 2-6 дюймов или несколько небольших подложек;
- Максимальная температура нагрева платформы для подложек составляет ≥500°C;
- Подложка может вращаться, скорость регулируется в диапазоне от 2 до 10 об/мин;
- Заслонки для образцов - 1 компл.;
- Нагреватель изготовлен из окисляемого материала;
- Подается отрицательное напряжение смещения 0-200В.
Магнетронные источники
- Два магнетрона (4 дюйма, устанавливаются в нижней части вакуумной камеры), с регулируемым углом наклона, совместимые с ВЧ и постоянным током, с водяным охлаждением и возможностью нанесения покрытия одинарным или двойным напылением;
- Неравномерность покрытия в пределах эффективной площади 5 дюймов составляет ≤±5%;
- Неравномерность покрытия в пределах эффективной площади 2 дюйма составляет ≤±3%.
Подача газа
Газ поступает в рабочую камеру по трем каналам через РРГ (через один запорный клапан CF16).
Источник питания
- ВЧ источник питания мощностью 500 Вт с согласующим устройством;
- Источник постоянного тока мощностью 1000 Вт.
Наименование | Кол- во |
Производитель |
---|---|---|
Вакуумная камера (размер Ø450 × 460 мм), верхняя крышка, материал - нерж. сталь 304 | 1 | Dexinmag |
Смотровое окно (устанавливается сбоку, Ø100 мм) | 2 | Dexinmag |
Заслонка смотрового окна (с ручным управлением) | 2 | Dexinmag |
Турбомолекулярный насос (FF-160/620, водяное охлаждение) | 1 | KYKY, Китай |
Механический форвакуумный насос (8л/с) | 1 | Китай |
Вакуумный затвор (нерж. сталь, GV150) | 1 | Dexinmag |
Магистраль DN40 | 2 | Dexinmag |
Угловой клапан (KF40) | 2 | Dexinmag |
Цифровой вакуумметр (ZDF-5227) | 1 | Китай |
Регулятор расхода газа (D07-7), комплект | 1 | Китай |
Магнетронные источники, 4 дюйма, с водяным охлаждением | 2 | Dexinmag |
Столик для подложки Ø150 мм, нагрев: 500°C, вращающийся; напряжение смещения | 1 | Dexinmag |
ВЧ источник питания мощностью 500 Вт, с согласующим устройством | 1 | Китай |
Источник постоянного тока мощностью 1000 Вт | 1 | Китай |
Рама для монтажа оборудования | 1 | Dexinmag |
Система управления | 1 | Dexinmag |