logo
home-page
Технологические установки (PVD, ALD)

Установка лазерного напыления DXP-300

Установка лазерного напыления DXP-300

DexinMag-logo
PVD-DXP-300

Применение:

Установка лазерного напыления DXP-300 предназначена для получения сверхпроводящих тонких пленок, полупроводниковых пленок, сегнетоэлектрических пленок и т.д. Данная система используется для исследований тонкопленочных материалов и производства небольших партий продукции в университетах и исследовательских институтах.


Установка состоит из рабочей вакуумной камеры, вращающейся платформы, нагревательной пластины, системы откачки и измерения вакуума, системы управления и других комплектующих.

Технические характеристики
Модель DXP-300
Рабочая вакуумная камера Сферическая, Ø300мм
Вакуумная система Механический форвакуумный насос, турбормолекулярный насос, клапан
Предельное остаточное давление ≤6,67*10-5 Па (после прогрева и обезгаживания)
Время повторной откачки 5*10-3 Па за 20мин
Вращающаяся платформа Размер мишени: Ø30 мм, до 4 шт. единовременно, каждая может вращаться, направление вращения можно менять. Скорость вращения: 5-60 об/мин.
Нагревательная пластина подложки Размер образца 1"
Режим вращения Подложка может непрерывно вращаться со скоростью 5-60 об/мин
Нагрев Макс. температура нагрева подложки: 800°C ± 1°C
Воздушный контур Регулятор расхода (один канал)
Устройство для сканирования лазерным лучом Двумерное сканирование
Компьютерная система управления Управление вращением пластины мишени, вращением мишени, вращением образца, контроль температуры образца, сканирования лазерным лучом и т.д.
Занимаемое пространство Основная установка 850*850мм2
Шкаф управления 700*700мм2 (1шт)

Отправьте запрос

Наши специалисты оперативно свяжутся с Вами

Нажимая кнопку "Отправить запрос", я подтверждаю согласие с Политикой конфиденциальности.

Поля, отмеченные *, обязательны для заполнения.