Установка лазерного напыления DXP-300
Применение:
Установка лазерного напыления DXP-300 предназначена для получения сверхпроводящих тонких пленок, полупроводниковых пленок, сегнетоэлектрических пленок и т.д. Данная система используется для исследований тонкопленочных материалов и производства небольших партий продукции в университетах и исследовательских институтах.
Установка состоит из рабочей вакуумной камеры, вращающейся платформы, нагревательной пластины, системы откачки и измерения вакуума, системы управления и других комплектующих.
Модель | DXP-300 | |
---|---|---|
Рабочая вакуумная камера | Сферическая, Ø300мм | |
Вакуумная система | Механический форвакуумный насос, турбормолекулярный насос, клапан | |
Предельное остаточное давление | ≤6,67*10-5 Па (после прогрева и обезгаживания) | |
Время повторной откачки | 5*10-3 Па за 20мин | |
Вращающаяся платформа | Размер мишени: Ø30 мм, до 4 шт. единовременно, каждая может вращаться, направление вращения можно менять. Скорость вращения: 5-60 об/мин. | |
Нагревательная пластина подложки | Размер образца | 1" |
Режим вращения | Подложка может непрерывно вращаться со скоростью 5-60 об/мин | |
Нагрев | Макс. температура нагрева подложки: 800°C ± 1°C | |
Воздушный контур | Регулятор расхода (один канал) | |
Устройство для сканирования лазерным лучом | Двумерное сканирование | |
Компьютерная система управления | Управление вращением пластины мишени, вращением мишени, вращением образца, контроль температуры образца, сканирования лазерным лучом и т.д. | |
Занимаемое пространство | Основная установка | 850*850мм2 |
Шкаф управления | 700*700мм2 (1шт) |