Установка импульсного лазерного напыления DXP-450B
Установка импульсного лазерного напыления DXP-450B Xiamen Dexing Magnet Tech (Dexinmag)
Применение
Установка лазерного напыления DXP-450B предназначена для получения полупроводниковых пленок, сверхпроводящих тонких пленок, сегнетоэлектрических и других тонких пленок. Применяется для исследований тонкопленочных материалов и мелкосерийного производства в университетах и научно-исследовательских институтах.
Основные узлы установки: вакуумная камера, вращающаяся платформа, нагревательная пластина, система вакууммирования, система управления и др.
| Модель | DXP-450B | |
|---|---|---|
| Рабочая вакуумная камера | Сферическая, Ø450 мм | |
| Вакуумная система | Механический форвакуумный насос, турбормолекулярный насос | |
| Предельное остаточное давление | ≤6,67*10-6 Па (после прогрева и обезгаживания) | |
| Время повторной откачки | 5*10-3 Па за 20 мин | |
| Вращающаяся платформа | Размер мишени: Ø60 мм или Ø25 мм, до 4 шт. единовременно, каждая может вращаться, направление вращения можно менять. Скорость вращения: 5-60 об/мин. | |
| Нагревательная пластина подложки | Размер образца | 2" |
| Режим вращения | Подложка может непрерывно вращаться со скоростью 5-60 об/мин | |
| Нагрев | Макс. температура нагрева подложки: 800 °C ± 1 °C | |
| Воздушный контур | Регулятор расхода (один канал) | |
| Устройство для сканирования лазерным лучом | Двумерное сканирование | |
| Компьютерная система управления | Управление вращением пластины мишени, вращением мишени, вращением образца, контроль температуры образца, сканирования лазерным лучом и т.д. | |
| Занимаемое пространство | Основная установка | 1500*900 мм2 |
| Шкаф управления | 700*700 мм2 (1 шт.) | |
Цена предоставляется по запросу. Позвоните или напишите нам.
Мы поможем подобрать оптимальное по характеристикам и цене оборудование под Ваш бюджет.