Установка лазерного напыления DXP-450B
Применение:
Установка лазерного напыления DXP-300 предназначена для получения полупроводниковых пленок, сверхпроводящих тонких пленок, сегнетоэлектрических и других тонких пленок. Применяется для исследований тонкопленочных материалов и мелкосерийного производства в университетах и научно-исследовательских институтах.
Основные узлы установки: вакуумная камера, вращающаяся платформа, нагревательная пластина, система вакууммирования, система управления и др.
Модель | DXP-450B | |
---|---|---|
Рабочая вакуумная камера | Сферическая, Ø450мм | |
Вакуумная система | Механический форвакуумный насос, турбормолекулярный насос | |
Предельное остаточное давление | ≤6,67*10-6 Па (после прогрева и обезгаживания) | |
Время повторной откачки | 5*10-3 Па за 20мин | |
Вращающаяся платформа | Размер мишени: Ø60 мм или Ø25 мм, до 4 шт. единовременно, каждая может вращаться, направление вращения можно менять. Скорость вращения: 5-60 об/мин. | |
Нагревательная пластина подложки | Размер образца | 2" |
Режим вращения | Подложка может непрерывно вращаться со скоростью 5-60 об/мин | |
Нагрев | Макс. температура нагрева подложки: 800°C ± 1°C | |
Воздушный контур | Регулятор расхода (один канал) | |
Устройство для сканирования лазерным лучом | Двумерное сканирование | |
Компьютерная система управления | Управление вращением пластины мишени, вращением мишени, вращением образца, контроль температуры образца, сканирования лазерным лучом и т.д. | |
Занимаемое пространство | Основная установка | 1500*900мм2 |
Шкаф управления | 700*700мм2 (1шт) |