logo
home-page
Технологические установки (PVD, ALD)

Установка лазерного напыления DXP-450B

Установка лазерного напыления DXP-450B

DexinMag-logo
PVD-DXP-450B

Применение:

Установка лазерного напыления DXP-300 предназначена для получения полупроводниковых пленок, сверхпроводящих тонких пленок, сегнетоэлектрических и других тонких пленок. Применяется для исследований тонкопленочных материалов и мелкосерийного производства в университетах и научно-исследовательских институтах.


Основные узлы установки: вакуумная камера, вращающаяся платформа, нагревательная пластина, система вакууммирования, система управления и др.

Технические характеристики
Модель DXP-450B
Рабочая вакуумная камера Сферическая, Ø450мм
Вакуумная система Механический форвакуумный насос, турбормолекулярный насос
Предельное остаточное давление ≤6,67*10-6 Па (после прогрева и обезгаживания)
Время повторной откачки 5*10-3 Па за 20мин
Вращающаяся платформа Размер мишени: Ø60 мм или Ø25 мм, до 4 шт. единовременно, каждая может вращаться, направление вращения можно менять. Скорость вращения: 5-60 об/мин.
Нагревательная пластина подложки Размер образца 2"
Режим вращения Подложка может непрерывно вращаться со скоростью 5-60 об/мин
Нагрев Макс. температура нагрева подложки: 800°C ± 1°C
Воздушный контур Регулятор расхода (один канал)
Устройство для сканирования лазерным лучом Двумерное сканирование
Компьютерная система управления Управление вращением пластины мишени, вращением мишени, вращением образца, контроль температуры образца, сканирования лазерным лучом и т.д.
Занимаемое пространство Основная установка 1500*900мм2
Шкаф управления 700*700мм2 (1шт)

Отправьте запрос

Наши специалисты оперативно свяжутся с Вами

Нажимая кнопку "Отправить запрос", я подтверждаю согласие с Политикой конфиденциальности.

Поля, отмеченные *, обязательны для заполнения.